真空蒸發鍍膜設備
真空蒸發鍍膜的基材主要是常用的薄膜基材有:BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和紙張類。除了薄膜和紙張外,真空蒸鍍廣泛應用于塑料、金屬、陶瓷、合成樹脂、蠟、木材等制品。
| 真空蒸發鍍膜設備應用
電子產品鍍膜 禮品鍍膜 飾品鍍膜 工藝品鍍膜 各種燈具反光罩鍍膜 包裝用品鍍膜 裝飾裝潢產品鍍膜等
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| 真空蒸發鍍膜設備參數
艙體尺寸:1200×1500、1400×1950、1600×1950、1800×1950 電源類型:直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源 圓柱靶:直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶 艙體結構:立式開門 真空系統:滑閥泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(可選裝:分子泵、深冷泵) 氣路系統:1-4路MFC 極限真空:6×10-4pa(空載) 抽氣時間:空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘 旋轉方式:6軸、8軸、9軸公自轉,變頻無級調速 控制方式:全自動、觸摸屏+PLC
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