參考價格
10-20萬元型號
CMSD2000品牌
IKN產地
德國樣本
暫無粉碎程度：
超細粉碎單位能耗：
0-10產量：
300-60000裝機功率（kw）：
4成品細度：
0-0.2入料粒度（mm）：
0-100工作原理：
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均勻分散不沉降，氧化鋁水性漿料納米研磨分散機,活性氧化鋁超微研磨分散機，氧化鋁高速納米分散，納米氧化鋁油分散液，氧化鋁微球乳化機，氧化鋁乳膠分散機，大孔容氧化鋁微球研磨分散機，氧化鋁乳膠，氧化鋁陶瓷基片研磨分散
IKN研磨分散具有設計緊湊、實用新型，外形美觀、密封良好、性能穩定、操作方便、裝修簡單、經久耐用、適應范圍廣、生產效益高等特點、是處理精細物料*理想的加工設備。
氧化鋁的核心應用
氧化鋁具有硬度高、化學穩定性好等優點，已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。
氧化鋁的分散問題
近年來，已將超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩定狀態，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體特有的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向實用化的關鍵。
在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發生團聚，出現絮凝，分層等現象，破壞漿料的分散穩定性。為此漿料的分散穩定性成為人們研究的重點。影響穩定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質、PH值、溫度等。
當物料工藝確定后，影響分散穩定性的**因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩定性越高。這種情況下要提高分散穩定性就必須選用高品質的分散設備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦CMSD2000系列研磨分散機，獨特的結構，膠體磨+分散機一體化設備，14000rpm超高轉速，效果好、效率高。
結合多家化工企業案例，我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為1μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態。不同分散介質與濃度設備選型、效果有所不同，歡迎來電咨詢。
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMSD2000系列研磨分散機設備選型表
| 產品系列 | 型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 kW | 出入口連接尺寸 |
| CMSD2000 | 2000/04 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| 2000/05 | 1,000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
| 2000/10 | 4,000 | 7,200 | 41 | 30 | DN50/DN50 | |
| 2000/20 | 10,000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
| 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
| 2000/50 | 60,000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%
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