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.工作原理：
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平面拋光機(jī)（研磨）
適用范圍：
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、 石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光．
主要用途：
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
工作原理：
金實(shí)力研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。
特點(diǎn)：
1．采用間隔式自動(dòng)噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。
2．系列研磨機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)； 拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。
3．系列研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速與定時(shí)可直接在觸摸屏上輸入。
特點(diǎn)：1．采用間隔式自動(dòng)噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。2．系列研磨機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)； 拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。
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