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我們的設備和工藝已通過充分驗證，正常運轉時間可達90%以上，一旦設備安裝完畢，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場應用廣，包括但不限于： MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發，通過打造質量滿足生產需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特點:
準確的刻蝕深度控制；
光滑的刻蝕表面
低損傷工藝
數字化/循環式刻蝕工藝——刻蝕相當于ALD
高選擇比
能加工**200mm的晶圓
高深寬比（HAR）刻蝕工藝
非常適于刻蝕納米級薄層
III-V族材料刻蝕工藝
固體激光器InP刻蝕
VCSEL GaAs/AlGaAs刻蝕
射頻器件低損傷GaN刻蝕
硅Bosch和超低溫刻蝕工藝
類金剛石（DLC）沉積
二氧化硅和石英刻蝕
用特殊配置的PlasmaPro FA設備進行失效分析的干法刻蝕解剖逆工藝，可處理封裝好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圓
高質量PECVD沉積的氮化硅和二氧化硅，用于光子學、電介質層、鈍化以及諸多其它用途
用于高亮度LED生產的硬掩模沉積和刻蝕
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您是否已飽受核磁送檢排隊周期長、結果反饋不及時和反應情況無法隨時掌握的煎熬？您是否也面臨核磁教學中學生只能學習理論而無法親自實操的窘境？現在X-Pulse寬帶臺式核磁波譜儀可以完全解決上述問題，儀器因
ALE原子層刻蝕的工作原理介紹？ALE原子層刻蝕的使用方法？ALE原子層刻蝕多少錢一臺？ALE原子層刻蝕使用的注意事項ALE原子層刻蝕的說明書有嗎？ALE原子層刻蝕的操作規程有嗎？ALE原子層刻蝕的報價含票含運費嗎？ALE原子層刻蝕有現貨嗎？ALE原子層刻蝕包安裝嗎？
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