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憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統為得到更為精湛的刻蝕效果提供了智能解決方案，使您在行業中能保持競爭優勢。
高效的刻蝕速率
低購置成本
專為腐蝕性的化學成分而設計
出色的刻蝕均勻性
適用于藍寶石的靜電壓盤技術
藍寶石和硅上的GaN
高導通抽氣系統
可與其它PlasmaPro系統集成
設備特點：
主動冷卻電極 - 在刻蝕過程中保持樣品溫度
高功率ICP源 - 產生高密度等離子體
可靠的硬件且易于維護 - 可保持長時間正常運轉
磁場墊環 - 增強離子的控制和均勻性
靜電壓盤技術 - 適用于藍寶石，以及藍寶石和硅基的GaN
加熱的腔室內襯 - 優化以減少腔壁沉積
先進的自動匹配單元（AMU） - 提供快速，高效和準確的匹配，確保工藝的高度準確重復性
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