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GSL-CKJS-560-B2磁控濺射
GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

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型號

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產地

遼寧

樣本

暫無
沈陽科晶自動化設備有限公司

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產品簡介:高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產品型號

GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25±15,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需充注/氬氣(純度99.99%以上),需自備/氬氣氣瓶(自帶?10mm雙卡套接頭)及減壓閥

4場地設備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1真空度高

2、可制備多種薄膜,金屬、半導體、絕緣體等,應用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

4、清理安裝便捷。

5控制可選一體化觸摸屏控制

技術參數

1主濺射室尺寸:?560×355mm梨形真空室

2主濺射室真空度5×10-6Pa

3進樣室尺寸: ?255×430mm

4進樣室真空度5×10-4Pa

5永磁靶5套,靶材尺寸φ2,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個靶可濺射鐵磁材料

6公轉樣品臺6個工位,5個水冷工位,1個加熱工位,加熱工位**溫度600℃±1℃

7樣品尺寸:φ1,可放置6片

8基片可加-200V負偏壓

9進樣室可一次性安裝6片樣品,可對被鍍樣品進行退火處理,退火溫度800℃±1℃

10、進樣室可對基片進行反濺清洗

11進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構進行樣品傳遞

產品規格

整機尺寸:2700×900mm×2000mm

標準配件

1

電源控制系統

1

2

真空獲得系統

1

3

真空測量裝置

1

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產品質量

10分

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10分

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10分

性價比

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