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VTC-200P真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。VTC-200P真空旋轉涂膜機腔體不可抽真空，工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度至極限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節約材料。腔室的上蓋可以對樣品進行加熱（可選功能），有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆過程的進行。VTC-200P真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
產品名稱 | VTC-200P真空旋轉涂膜機 | ||
產品型號 | VTC-200P | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有進出水口 2、電：AC220V50Hz，必須有良好接地 3、氣：不需要 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要 | ||
主要特點 | 1、設有12組程序，每組包含6個運行階段，每段增減速率設置范圍：100—2000rpm/s，每段時間范圍：0—60s。 2、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。 3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。 4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。 5、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。 6、電機采用24V直流無刷電機，無級調速，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。 7、本機可置于手套箱內使用，但控制部分與真空泵需置于箱外。 8、可在惰性氣體氣氛（如Ar、N2）下進行涂層。 9、采用無油雙杠真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。 10、腔體通體采用聚丙烯材質，使用壽命更長，提高耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能。 11、全英文操作系統。 12、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止 13、控制器采用單控制箱，液晶顯示數值，更直觀可靠。 | ||
技術參數 | 1、電源：220V 50HZ 2、電機功率：350W/24V 3、轉速：500rpm-6000rpm之間可調 4.可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段， 5、每段增減速率設置范圍：100 rpm s—2000 rpm /s，每段時間范圍：0-60s 6、吸盤規格φ100mm 7、本機可選配加熱功能：加溫范圍RT-100% 加熱蓋，水槽及吸盤采用聚丙烯材質 溫度單獨控制，與主機程序控制無關聯 | ||
產品規格 | 尺寸：φ250mm×360mm；重量：20kg | ||
標準配件 | 1 | φ100mm真空吸盤 | 1個 |
2 | O型膠圈 | 1個 | |
3 | 滴液器 | 1個 | |
4 | 滴液器支架 | 1個 | |
5 | 中心定位器 | 1個 | |
6 | 無油真空泵 | 1臺 | |
可選配件 | 進口移液器 國產移液槍 其它尺寸的真空吸盤 | ||
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