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DMD無掩模直寫光刻系統
DMD無掩模直寫光刻系統

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法國Microlight 3D出品的SmartPrint UV基于創新DMD無掩模直寫光刻工藝, 在保證穩定可靠性下極大提到作業產率, 是傳統直寫光刻效率的100倍以上, 大大減少了半導體器件試作的周期時間!此系統為桌面型緊湊型設計, 在保證高性能同時節省空間且性價比極高, 精選的物鏡工作范圍可達3cm, 使系統可兼容除硅片外更多非標襯底如不平的, 柔性的, 和厚的, 完全符合微納米加工及柔性器件制備的預期!

使用稱為DMD的顯示元件,通過與平臺完全同步的ON/OFF控制,在晶片上直接繪制圖案。因為不需要試制照片掩模所花的時間和費用,所以可以提高半導體及其他電子器件的試制效率.

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