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裝置概述
本裝置為配備分子泵機組的高真空固體粉末樣品原位反應及處理工作站，適用于固體粉末樣品的高真空、高低溫處理、原位反應及樣品轉移，廣泛應用于固體核磁共振和光譜分析等化學分析的樣品預處理。提供高通量的樣品處理環境，可以實現樣品真空脫氣處理、高低溫處理、流動氣氛加熱反應以及粉末樣品定量吸附探針分子，亦可以實現吸附分子的在線儀器分析等功能。
技術參數
- 樣品加熱**溫度：500oC
- 極限真空度：-10-4Pa
- 氣體流量控制：0-100 ml/min
- 無油真空系統：液氮冷井隔離
- 真空原位樣品轉移：原位樣品處理和裝填
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