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應用于IC、半導體制造及科研開發等領域
覆蓋生產線上所有非金屬薄膜
多參數和多層膜測量
技術參數：
Nanothi 100技術規格
可測薄膜
可測膜層 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等
膜層結構 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等單、多層結構
測量參數 T，N，K，R
測量范圍 25nm - 20µm (Oxide/Si)
硬件規格
光譜范圍 400-800nm
物鏡倍率 4X 10X 40X
光斑尺寸 *小30µm
機械分辨率 X：1µm， Y：1µm， Z：0.04µm
測量指標
250Å－2000Å 2000Å－20µm
準確度 ±1％ ±1％
重復性（3б） 0.75Å 0.05％
穩定性（3б） 2.4Å 0.25％
測量時間 單點 < 3sec， 5點 <30sec
主要特點：
先進的光學測量技術
高精度、高重復性測量
穩定、使用壽命長且低成本的光源
高性能PDA
自動調焦
三維全自動機械平臺
貼近生產實際操作習慣的軟件系統，為測量提供快捷、方便易用的操作
數據的準確測量與實時評價
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