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CF系列化學機械拋光機_壓力盤獨立驅動型(IDP型)玉力盤獨立驅動型CP系列化學機械拋光機每一個壓力盤都由單獨的一個伺服減速電機驅動，不同于中心導輪驅動型CP設備通過摩擦力助力驅動的方式，壓力盤獨立驅動型CP設備可以實現精確的壓力盤轉速控制，同時，由于拋光區域內避免了摩擦接觸的結構，減少了拋光液結晶顆粒的產生，從而減少了晶片的表面顆粒污染及劃傷的幾率;壓力盤獨立驅動型拋光機每個壓力盤的轉速都可以分別設定，根據每個壓力盤加壓氣缸的特性，通過對壓力盤轉速的細微調節可以實現不同壓力盤之間幾乎零差異的加工結果。
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