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1、產品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-C | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 黑色或深灰色 |
2、產品規格
定制
3、產品概述
石墨（C）靶材通常用于物理蒸發沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝，主要應用于制備碳薄膜、導電薄膜、光學薄膜和其他高科技領域的產品。由于石墨具有良好的導電性和化學穩定性，因此在這些領域中得到廣泛應用。例如，石墨靶材可用于制備導電薄膜、光學涂層、太陽能電池等。此外，石墨靶材還可用于制備顯示器件、光電器件和其他高端工業產品。
4、產品用途
高純度：石墨靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：石墨靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發沉積和磁控濺射等。
應用領域：石墨靶材在導電薄膜、光學涂層、太陽能電池等領域有廣泛的應用。
性能優異：石墨靶材具有良好的導電性和化學穩定性，能夠滿足高端產品對材料性能的要求。
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