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1）： 適用于對硅片、藍寶石片、氮化鎵、砷化鎵、碳化硅片等半導體晶圓的全自動離心脫水、氮氣吹掃烘干等；
2）： 適用于2-12”晶圓的脫水甩干；
3）： 配備電導率測試儀，可選清洗終點判定依據；
4）： 配備旋轉支架：工作轉速 ：400-2200rpm；轉速誤差<5%；平衡等級：G40；采用光盤自動定位，定位可靠；
5）： 觸摸屏+PLC控制方式；
6）： 配備靜電消除裝置：將帶電離子吹向甩干桶內以中和桶內靜電離子。
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