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上海研倍新材料 專業生產納米粉末 二氧化硅拋光液 SiO2 納米材料

1、產品信息   

2、產品規格

1、樣品測試包裝客戶指定（＜1kg/袋裝）

2、樣品產品包裝（1kg/袋裝）

3、常規產品包裝（1kg/2kg/5kg/10kg）

備注：內：充惰性氣體 外：鋁箔袋真空。可根據客戶要求指定包裝。

3、產品概述

產品通過“選用凈化原料+生產純化工藝+品控智能控制”制備生成，產品具有技術含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學性能穩定的特點。

4、產品用途

• 半導體工業:

• 化學機械拋光(CMP):這是二氧化硅拋光液*主要的應用。它用于拋光硅晶圓、多層膜、金屬層等，以達到所需的平面度、粗糙度和表面質量。不同的CMP應用需要不同粒徑和配方的二氧化硅拋光液，以實現**的拋光效果。例如，用于平坦化硅晶圓的拋光液粒徑通常較粗，而用于拋光金屬互連層的拋光液粒徑則較細。

• 光學元件拋光:

• 透鏡、棱鏡、光纖等:二氧化硅拋光液可用于拋光各種光學元件，以獲得高精度表面，減少光學元件表面的缺陷，提高光學性能。此應用中對表面質量要求極高，因此需要使用粒徑非常細的二氧化硅拋光液。

• 磁頭拋光:

• 硬盤驅動器磁頭:二氧化硅拋光液用于拋光硬盤驅動器的磁頭，以獲得高精度和低粗糙度的表面，保證數據讀取的可靠性。

• 精密機械加工:

• 各種精密零件:用于拋光各種精密零件，以獲得高精度和高質量的表面光潔度。

• 其他應用:

• 液晶顯示屏 (LCD) 拋光:用于拋光LCD玻璃基板。

• 手表表鏡拋光:用于拋光高精度手表表鏡。