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CVD 化學氣相沉積回轉爐 動態旋轉式沉積設計
CVD 化學氣相沉積回轉爐 動態旋轉式沉積設計

參考價格

10-20萬元

型號

GZ-CVD

品牌

產地

咸陽

樣本

暫無
陜西罡正窯爐科技有限公司1

會員

|

第1年

|

生產商

工商已核實

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核心參數
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    其他
  • 燒結氣氛:

    其他
  • 溫控精度:

    ±2℃
  • 最高溫度:

    ≤1000℃
  • 額定溫度:

    ≤1000℃
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CVD (化學氣相沉積)回轉爐是一種用于材料表面改性和薄膜沉積的高端設備,廣泛應用于半導體、新能源、陶瓷、粉末冶金等領域。通過化學氣相沉積技術,可在材料表面形成均勻、致密的薄膜,提升材料的性能。



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