參考價格
5-10萬元型號
Nanotrac Wave Ⅱ品牌
Microtrac-BEL產(chǎn)地
日本樣本
暫無測量范圍:
300誤差率:
不限分辨率:
400重現(xiàn)性:
300儀器原理:
動態(tài)光散射分散方式:
100測量時間:
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動態(tài)光背散射技術:采用先進的動態(tài)光背散射技術,結合全量程米氏理論處理,可準確測量粒徑范圍為0.3nm-10μm的納米顆粒。
微電場分析技術:融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。
異相多譜勒頻移技術:獲得的光信號強度較傳統(tǒng)方法高出幾個數(shù)量級,提高分析結果的可靠性。
快速傅利葉變換算法:迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。
“Y”型光纖探針光路設計:通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位,避免樣品交叉污染與濃度變化。
超短散射光程設計:減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
激光放大檢測方法:信噪比是其他DLS方法的106倍,如光子相關光譜(PCS)和納米跟蹤(NT),不受樣品中污染物造成的信號失真影響。
可控參比方法(CRM):能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。
高精度測量:粒度分析范圍寬,重現(xiàn)性誤差≤1%,濃度范圍廣(100ppb-40%w/v),測量精度高,無需預選,依據(jù)實際測量結果,自動生成單峰/多峰分布結果。
無需復雜設備:無需比色皿、毛細管電泳池或外加電池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結果。
消除多種干擾:完全消除由于空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,提高靈敏度。
FLEX軟件:提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形、數(shù)據(jù)輸出/輸入、個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出、Internet共享數(shù)據(jù)、Microsoft Access格式(OLE)等。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11要求。
日本Microtrac-Bel納米顆粒粒度儀Nanotrac Wave Ⅱ
應用場景與尺寸對應關系研磨工藝:超細研磨(D50≤1μm):推薦使用0.1-1mm的小球,因其比表面積大于8m2/g,適合醫(yī)藥API微粉化和電子陶瓷介電材料的研磨,可以提升生物利用度和介電常數(shù)。常規(guī)研
引言在材料處理與加工領域,高效且精準的研磨設備至關重要。日陶科學的球磨機以其卓越的性能、先進的技術,為眾多行業(yè)面臨的物料研磨難題提供了全方位解決方案。無論是礦石加工中對硬度極高的礦石進行粉碎,還是陶瓷
在各類涉及蒸汽應用的工業(yè)場景與設施中,高效且穩(wěn)定的蒸汽系統(tǒng)運行至關重要。而日本 TLV 公司作為蒸汽領域的領軍者,其研發(fā)制造的疏水閥在全球范圍內(nèi)備受贊譽,為眾多行業(yè)的蒸汽系統(tǒng)提供了可靠保障。一、公司背