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1-5萬元型號
(ZrO 2-95%)品牌
日本itoh伊藤產(chǎn)地
日本樣本
暫無莫氏硬度：
9粒度/直徑（μm）：
從微米級到毫米級密度：
3.9～4.1g/cm3含量：
95材質(zhì)：
氧化鋯形狀：
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高密度：密度達到6.0g/cm3，在研磨過程中能提供更大的沖擊能量，尤其適用于高粘度物料的研磨。
高硬度：維氏硬度超過1200kg/mm2，莫氏硬度達到9級，具有優(yōu)異的耐磨性能，磨損率低。
低磨耗：磨耗率極低，僅為0.01%以下，在高速研磨工況下，磨損率較鋼珠降低40%。
抗沖擊性：壓碎強度超過150kgf，能夠承受砂磨機高速運轉下的機械沖擊。
熱穩(wěn)定性：耐溫可達600℃，熱膨脹系數(shù)接近金屬，在高溫環(huán)境下仍能保持強度與硬度不變。
表面特性：表面光滑，具有珍珠光澤，降低了物料的粘附，即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài)。
高純度：ZrO?含量≥95%，Y?O?含量為4.5-5.5%，化學穩(wěn)定性高，不與大多數(shù)化學物質(zhì)發(fā)生反應。
無污染：在研磨過程中不會對物料造成污染，特別適用于對純度要求高的物料研磨。
生產(chǎn)工藝：采用干粉等靜壓成型技術，通過150MPa以上壓力使粉體均勻致密化，再經(jīng)1550℃以上高溫燒結形成微晶結構，確保在高速運轉工況下具有良好的抗碎裂性能。
表面處理：采用精密拋光工藝，使球體圓度誤差小于0.05mm，確保設備運行的穩(wěn)定性。
精密加工：在航空航天領域，用于鈦合金、陶瓷基復合材料的超細研磨。
化工生產(chǎn)：用于鈦白粉分散、高分子材料濕法研磨。
電子制造：用于光連接器部件的拋光與分散。
特種材料：用于珠寶拋光、生物技術中DNA/RNA提取的細胞破碎。
研磨介質(zhì)：廣泛應用于砂磨機、球磨機等設備中，在油漆涂料行業(yè)，其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%，并能減少因介質(zhì)碎裂導致的物料污染。
綜上所述，日本伊藤（Itoh）生產(chǎn)的95%氧化鋯球（ZrO?）以其高密度、高硬度、低磨耗、抗沖擊性、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和無污染特性，廣泛應用于多個工業(yè)領域，是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料。
物理性能
高密度：密度達到6.0g/cm3，在研磨過程中能提供更大的沖擊能量，尤其適用于高粘度物料的研磨。
高硬度：維氏硬度超過1200kg/mm2，莫氏硬度達到9級，具有優(yōu)異的耐磨性能，磨損率低。
低磨耗：磨耗率極低，僅為0.01%以下，在高速研磨工況下，磨損率較鋼珠降低40%。
抗沖擊性：壓碎強度超過150kgf，能夠承受砂磨機高速運轉下的機械沖擊。
熱穩(wěn)定性：耐溫可達600℃，熱膨脹系數(shù)接近金屬，在高溫環(huán)境下仍能保持強度與硬度不變。
表面特性：表面光滑，具有珍珠光澤，降低了物料的粘附，即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài)。
化學性能
高純度：ZrO?含量≥95%，Y?O?含量為4.5-5.5%，化學穩(wěn)定性高，不與大多數(shù)化學物質(zhì)發(fā)生反應。
無污染：在研磨過程中不會對物料造成污染，特別適用于對純度要求高的物料研磨。
工藝性能
生產(chǎn)工藝：采用干粉等靜壓成型技術，通過150MPa以上壓力使粉體均勻致密化，再經(jīng)1550℃以上高溫燒結形成微晶結構，確保在高速運轉工況下具有良好的抗碎裂性能。
表面處理：采用精密拋光工藝，使球體圓度誤差小于0.05mm，確保設備運行的穩(wěn)定性。
應用領域
精密加工：在航空航天領域，用于鈦合金、陶瓷基復合材料的超細研磨。
化工生產(chǎn)：用于鈦白粉分散、高分子材料濕法研磨。
電子制造：用于光連接器部件的拋光與分散。
特種材料：用于珠寶拋光、生物技術中DNA/RNA提取的細胞破碎。
研磨介質(zhì)：廣泛應用于砂磨機、球磨機等設備中，在油漆涂料行業(yè)，其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%，并能減少因介質(zhì)碎裂導致的物料污染。
綜上所述，日本伊藤（Itoh）生產(chǎn)的95%氧化鋯球（ZrO?）以其高密度、高硬度、低磨耗、抗沖擊性、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和無污染特性，廣泛應用于多個工業(yè)領域，是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料。
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