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典型應用
氣體行業、半導體工藝設備，如 CVD,MOCVD, 硅外延，光纖，太陽 能光伏等
工藝介紹
主要針對N2、H2、Ar、He 等稀有氣體中雜質02、 H20、CO2, 常溫下采用吸附劑的化學催化、物理吸附技術，對以上雜質深度脫除，節省空間，安裝簡捷，使用方便。
純化指標表
氣體類別 | 可純化氣體 | 去除雜質 | 純化指標 |
D-惰性氣體 | N2、Ar、He、Ne、Kr | H?O、0?、CO、CO?、H? | <1ppb |
Y-氧氣 | 0? | H?O、CO? | |
Q-氫氣 | H? | H?O、0?、CO、CO? |
*表中只列出典型的和常見的氣體，更多可純化氣體請與柯林斯聯系
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