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1萬元以下型號
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產(chǎn)地
日本樣本
暫無形狀：
球莫氏硬度：
9粒度/直徑（μm）：
φ10、φ15、φ20、φ25密度：
3.9～4.1g/cm3含量：
95材質(zhì)：
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日陶氧化鋯球的抗壓強(qiáng)度達(dá)到 1200 MPa，硬度為 1250 HV10，能夠在高強(qiáng)度研磨過程中保持形狀和尺寸的穩(wěn)定性。
高純度：ZrO? + HfO? 含量達(dá) 94.7%，確保材料的高純度和穩(wěn)定性。
低磨耗：磨耗損失非常少，使用壽命長，能顯著降低生產(chǎn)成本。
低污染：在研磨過程中幾乎不會引入雜質(zhì)，適合高精度材料的加工。
提供從 0.03 mm 到 25 mm 的多種尺寸，適用于不同粒度要求的研磨和分散。
在常溫下具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性，不導(dǎo)磁，電絕緣，可在水性系統(tǒng)中使用。
耐各類化學(xué)液體，適用于酸性、堿性或中性體系。
高球形度：球形度高，表面光滑，粒度分布集中。
研磨效率：有助于提高研磨效率和分散效果，減少研磨過程中的能量損失和材料浪費(fèi)。
電子材料：用于研磨和分散電介質(zhì)、壓電材料、磁性材料、電池電極材料等。
化工與涂料：廣泛應(yīng)用于顏料、油漆、油墨等材料的超細(xì)研磨和分散。
精細(xì)陶瓷：用于制備高性能陶瓷原料，確保材料的高純度和均勻性。
醫(yī)藥與食品：適用于藥品、粉末食品、農(nóng)藥等的研磨和分散。
其他領(lǐng)域：還可用于 CMP 研磨劑、拋光細(xì)粉、熱處理撒粉等。
高效率與低成本：高耐磨性和低磨耗特性顯著降低了生產(chǎn)中的廢棄物，減少了更換頻率，從而降低了使用成本。
環(huán)保友好：由于其低磨耗和高純度，日陶氧化鋯球?qū)Νh(huán)境的影響較小。
廣泛的應(yīng)用前景：隨著科技的不斷進(jìn)步，日陶氧化鋯球在電子材料、新能源、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的應(yīng)用將更加廣泛。
日本日陶氧化鋯球的特點(diǎn)
1. 高強(qiáng)度與高韌性
日陶氧化鋯球的抗壓強(qiáng)度達(dá)到 1200 MPa，硬度為 1250 HV10，能夠在高強(qiáng)度研磨過程中保持形狀和尺寸的穩(wěn)定性。
2. 耐磨性與低污染
高純度：ZrO? + HfO? 含量達(dá) 94.7%，確保材料的高純度和穩(wěn)定性。
低磨耗：磨耗損失非常少，使用壽命長，能顯著降低生產(chǎn)成本。
低污染：在研磨過程中幾乎不會引入雜質(zhì)，適合高精度材料的加工。
3. 尺寸范圍廣
提供從 0.03 mm 到 25 mm 的多種尺寸，適用于不同粒度要求的研磨和分散。
4. 化學(xué)穩(wěn)定性
在常溫下具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性，不導(dǎo)磁，電絕緣，可在水性系統(tǒng)中使用。
耐各類化學(xué)液體，適用于酸性、堿性或中性體系。
5. 高球形度與光滑表面
高球形度：球形度高，表面光滑，粒度分布集中。
研磨效率：有助于提高研磨效率和分散效果，減少研磨過程中的能量損失和材料浪費(fèi)。
6. 應(yīng)用領(lǐng)域
電子材料：用于研磨和分散電介質(zhì)、壓電材料、磁性材料、電池電極材料等。
化工與涂料：廣泛應(yīng)用于顏料、油漆、油墨等材料的超細(xì)研磨和分散。
精細(xì)陶瓷：用于制備高性能陶瓷原料，確保材料的高純度和均勻性。
醫(yī)藥與食品：適用于藥品、粉末食品、農(nóng)藥等的研磨和分散。
其他領(lǐng)域：還可用于 CMP 研磨劑、拋光細(xì)粉、熱處理撒粉等。
7. 優(yōu)勢
高效率與低成本：高耐磨性和低磨耗特性顯著降低了生產(chǎn)中的廢棄物，減少了更換頻率，從而降低了使用成本。
環(huán)保友好：由于其低磨耗和高純度，日陶氧化鋯球?qū)Νh(huán)境的影響較小。
廣泛的應(yīng)用前景：隨著科技的不斷進(jìn)步，日陶氧化鋯球在電子材料、新能源、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的應(yīng)用將更加廣泛。
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