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納米氧化鋁研磨液
納米氧化鋁研磨液

參考價格

面議

型號

DXN-AL-30

品牌

Dashinou

產地

江蘇

樣本

【下載】
達西濃納米科技(常州)有限公司

高級會員

|

第7年

|

生產商

工商已核實

留言詢價
核心參數
  • 主要材質:

    氧化鋁30%
  • 形狀:

    液體
  • 莫氏硬度:

    9
  • 密度(kg/m3):

    3.98
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氧化鋁研磨液

在半導體制造領域,超精密半導體研磨液作為關鍵工藝材料,直接決定了晶圓表面的平整度與器件性能的可靠性。超精密半導體研磨液DXN-AL-30 通過化學機械拋光(CMP)技術實現表面處理,其作用機制是化學腐蝕與機械研磨的協同效應。導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。達西濃納米生產納米氧化鋁研磨液,稀土研磨液,液體分散均勻,不團聚,懸浮性好,拋光速度快,表面質量高。

105.jpg

半導體研磨液參數如下:

44444.png

粒度測試數據如下:

氧化鋁研磨液AL-30 粒度.jpg

氧化鋁研磨液DXN-AL30特點:

1.液體顆粒均勻,流動性,穩定性好;

2.拋光精度高,產品質量高;

氧化鋁研磨液DXN-AL30應用于:

導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。

氧化鋁研磨液包裝:25kg/桶



創新點

超精密半導體研磨液作為關鍵工藝材料,直接決定了晶圓表面的平整度與器件性能的可靠性。超精密半導體研磨液DXN-AL-30 通過化學機械拋光(CMP)技術實現表面處理,其作用機制是化學腐蝕與機械研磨的協同效應。導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。達西濃納米生產納米氧化鋁研磨液,稀土研磨液,液體分散均勻,不團聚,懸浮性好,拋光速度快,表面質量高。

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10分

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10分

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10分

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10分
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