主要材質:
氧化鋁30%形狀:
液體莫氏硬度:
9密度(kg/m3):
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氧化鋁研磨液
在半導體制造領域,超精密半導體研磨液作為關鍵工藝材料,直接決定了晶圓表面的平整度與器件性能的可靠性。超精密半導體研磨液DXN-AL-30 通過化學機械拋光(CMP)技術實現表面處理,其作用機制是化學腐蝕與機械研磨的協同效應。導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。達西濃納米生產納米氧化鋁研磨液,稀土研磨液,液體分散均勻,不團聚,懸浮性好,拋光速度快,表面質量高。
半導體研磨液參數如下:
粒度測試數據如下:
氧化鋁研磨液DXN-AL30特點:
1.液體顆粒均勻,流動性,穩定性好;
2.拋光精度高,產品質量高;
氧化鋁研磨液DXN-AL30應用于:
導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。
氧化鋁研磨液包裝:25kg/桶
超精密半導體研磨液作為關鍵工藝材料,直接決定了晶圓表面的平整度與器件性能的可靠性。超精密半導體研磨液DXN-AL-30 通過化學機械拋光(CMP)技術實現表面處理,其作用機制是化學腐蝕與機械研磨的協同效應。導體芯片制造中,晶圓經過刻蝕、離子注入等工藝過程,表面會變得凹凸不平,并產生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度,去除晶圓表面多余物,有效實施后續工序,需要使用拋光液等拋光材料在專用設備上對晶圓進行多次拋光處理。達西濃納米生產納米氧化鋁研磨液,稀土研磨液,液體分散均勻,不團聚,懸浮性好,拋光速度快,表面質量高。
一、產品介紹:達西濃納米科技(常州)有限公司生產的金紅石型二氧化鈦分散液JH30S采用了先進的分散工藝,納米二氧化鈦粉體能夠均勻地分散在水相介質中,形成分散性好、不易分層和穩定性高的液體。二、產品特點
達西濃自主研發生產的二氧化鈦TB50,在鋰離子電池中的應用優勢主要體現在以下幾個方面 :1、高能量密度:二氧化鈦TB50作為一種新型鋰離子電池材料,具有極高的能量密度。 相比于傳統的鋰離子電池材料,如
氧化鋅分散液跟鋅離子抗 菌劑的區別氧化鋅分散液與鋅離子抗 菌劑在性質、功能和應用上存在一定區別,具體可歸納如下:1、性質與成分:氧化鋅分散液:是氧化鋅粉末均勻分散在液體介質(如水、乙醇或丙酮)中形成的