在日本政府主導下，由日本官方研究所和10家半導體企業聯合成立的“90納米線寬半導體技術研究中心”2003年6月下旬正式投入運行。該中心由日本產業技術綜合研究院主持運營，主要任務是開發先進的半導體制造技術和制訂相應的標準。

    由產業技術研究院出面，花費315億日元（約合3億美元）在原NEC神奈川縣的一所工廠內，建設了4500平方米的高規格的超凈室并安裝了先進的半導體制造設備，進行90納米線寬的12英寸（300mm）硅圓片的集成系統（又稱系統芯片，指在一塊芯片上集成存儲、運算、控制等多個系統——譯者注）芯片的試制。90納米約相當一根頭發絲的800分之一。
該中心由日本產業技術研究院派出11名，以及由組成“先進集成系統合作研究體”的10家半導體企業共派出87名技術人員組成。2002年7月成立的該研究體，其目標就是為了開發用于數字家用電器的集成系統芯片。該研究體就設在神奈川縣的相模原市。2003年6月起的研究課題為：90納米線寬半導體制造工藝的開發和標準化。 　

    該“90納米線寬半導體技術研究中心”的負責人川手先生稱，如果只靠一家公司開發90納米線寬半導體生產工藝的標準化，則各公司將花費至少200億日元。通過合作開發標準化的技術，將大大節省每家公司的投資。從2004年起，該研究中心將向出資的10家半導體企業轉讓所開發出的成果。 　　

    日本政府成立該研究中心就是為了將把各企業分別開發的半導體技術，通過將“合作研究體”和日本產業技術研究院的科技力量集中在一起，從而為恢復日本半導體業的競爭能力而共同奮斗。 　　

    目前，產業技術研究院和“先進集成系統合作聯合體”正在對新一代半導體技術進行著近10個課題的研究。他們將把上述研究項目納入新成立的研究中心，繼續進行研究開發及成果推廣。