中國粉體網訊  6月8日，康達新材披露接待調研公告，公司于6月6日接待國泰海通證券等19家機構調研。

對于公司研發的氧化鋁靶材，康達新材表示：“氧化鋁靶材可應用于集成電路(IC)制造領域，用于沉積絕緣層和介電層，隔離電路防止干擾，減少電流泄漏，提升產品的可靠性和耐久性。目前控股子公司惟新科技的氧化鋁靶材已完成了小批次驗證，根據客戶訂單需求供貨。”

靶材——半導體制程中的關鍵材料

濺射靶材應用于濺射薄膜沉積工藝，濺射沉積是一種物理氣相沉積（PVD）工藝，即在一定的真空環境下，利用荷能粒子轟擊材料表面，使材料表面濺射出粒子并沉積在基底表面形成薄膜。濺射薄膜沉積工藝可重復性好、膜厚可控，所制備的薄膜具有純度高、致密性好等優點，可用于集成電路產業的高性能薄膜制備，對集成電路產業發展具有重要推動作用。

ITO靶材

在濺射沉積工藝中，被轟擊的目標材料稱為濺射靶材。

濺射靶材可應用于半導體、平板顯示、光伏、記錄存儲等多個領域。就其分類：按照形狀不同，濺射靶材可分為圓形靶、矩形靶和管狀靶。按照材質不同，濺射靶材材可以分為純金屬靶材（鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。

陶瓷靶材按應用分類

氧化鋁是一種常用的陶瓷靶材材料。一般來說，為了提高濺射效率及確保沉積薄膜的質量，對陶瓷靶材有嚴格要求，首先陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響挺大，陶瓷靶材的純度越高，濺射薄膜的均一性和批量產品質量的一致性挺好，因此氧化鋁用作靶材時需用到高純度氧化鋁。

國產替代迫在眉睫

受到發展歷史和技術限制的影響，總體上濺射靶材行業在我國起步較晚，目前仍然屬于一個較新的行業。與國際知名企業生產的濺射靶材相比，我國濺射靶材市場影響力相對有限，尤其在半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領域，全球高純濺射靶材市場依然被美國、日本生產廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發展，我國濺射靶材生產企業只有不斷進行研發創新，具備較強的產品開發能力，研制出適用不同應用領域的濺射靶材產品，才能在全球濺射靶材市場中占得一席之地。

近年來，我國電子信息產業飛速發展，集成電路、顯示器、太陽能光伏行業均有大量企業出現，我國已逐漸成為世界上靶材的最大需求地區之一。由于靶材市場具有極高的技術壁壘和客戶認證壁壘，同時國際貿易格局存在較大的不確定性，國產替代迫在眉睫，使國內靶材企業有機會受益于國產替代所帶來的契機。

關于康達新材

康達新材擁有三十多年膠粘劑新材料生產、研發和銷售經驗，能深刻把握膠粘劑行業發展趨勢，技術與產品不斷推陳出新，競爭力穩步提升，是國內主要膠粘劑新材料生產企業之一。2018年公司開啟外延并購步伐，進入電子科技領域，逐步完善電子科技板塊產業鏈的布局；通過控股大連齊化向膠粘劑上游延伸，把控核心原材料，同時探索電子級環氧樹脂方向；通過收購晶材科技與惟新科技，聚焦以電子信息材料為核心的第二增長曲線中的ITO靶材、氧化鋁靶材、CMP（氧化鈰）拋光液、低溫共燒陶瓷（LTCC）等無機半導體材料領域，積極向先進新材料領域轉型。

參考來源：康達新材相關公告

（中國粉體網/山川）

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