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    我叫鄧李朋，碩士就讀于浙江理工大學，在校期間研究半導體薄膜的制備及其光電性能研究。

  本次發表的論文《Surface plasma treatment reduces oxygen vacancies defects states to control photogenerated carriers transportation for enhanced self-powered deep UV photoelectric characteristics》在《Applied surface science》上發表，該期刊分區為一區，影響因子7.3922022）。

  在文中所闡述的薄膜制備儀器是購自于安徽貝意克公司BTF-1200C-PECVD-500A。主要是使用該設備在不同的溫度下生長氧化鎵薄膜，同時需要精準的控制氣體的流量。值得一提的是在長時間的使用過程中400-1200℃的高溫下該設備依舊可以正常工作且氣密性很好。該設備購至于2019年2月，目前以在實驗室服役3年半，其溫控、壓強、流量顯示依舊準確。這是貝意克公司良好品控的體現。此外，貝意克的市場銷售以及相關技術人員在儀器的使用過程中給予了我們大量的技術支持，為科研的順利進行提供了重要的幫助，在此表示感謝。

    作為貝意克的用戶，十分感謝貝意克的設備在科研工作期間的陪伴。貝意克獎學金是回饋用戶的一個很Nice的方案，同時也是對我們工作的肯定。

     最后，祝愿貝意克公司蒸蒸日上，為一線的科研人員提供更好更精密的產品。