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安徽貝意克設備技術有限公司

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產品推薦 | 智能型等離子體增強化學氣相沉積系統PECVD-1000A-D150

產品推薦 | 智能型等離子體增強化學氣相沉積系統PECVD-1000A-D150
貝意克  2023-12-07  |  閱讀:1035

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導語

智能PECVD設備是目前最新型的一款設備,將所有的控制部分集為一體,此款設備是我司在2013年獲得專利的設備。可配備PE射頻電源,將CVD系統升級為PECVD。當參與反應的氣氛進入爐管在射頻電源的作用下產生離子體,可使反應更加充分。同時等離子體起增強的作用,從而很大程度上優化實驗的工藝條件。


我公司研制的PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區,輝光均勻等效,這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態,這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍,并解決了物料不均勻堆積現象。

1、與傳統CVD系統比較,生長溫度更低。

2、設備特有的專利技術使得整管輝光均勻等效,均勻生長。


設備特點:

1.薄膜沉積速率高:射頻輝光技術,大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達10A/S;

2. 大面積均勻性高:采用了先進的多點射頻饋入技術,特殊氣路分布和加熱技術等,使得薄膜均勻性指標達到8%;

3. 一致性高:用半導體行業的先進設計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;

4. 工藝穩定性高:高度穩定的設備保證了工藝的連續和穩定。


安徽貝意克設備技術有限公司

銷售熱線:0551-65146333

售后熱線:0551-65148123

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