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本系統能夠實現對顆粒的形貌和尺寸大小做實時的定性定量的準確測量，進而加深對過程的了解和實現過程的優化控制及放大。除了固體結晶以外，對其他非固體的領域，例如氣泡，泡沫，乳狀液，液滴，聚合物，流場等刻畫也具有極其廣泛的應用前景。它適用于生產中對過程的研究，產品開發及其改進。特別適用于監測，優化和控制高顆粒濃度過程及非透明顆粒的生產過程。

技術指標：

• 測量范圍：1μm-1000μm，可定制擴展至10000μm(與鏡頭放大倍數、相機等相關)

• 測量方式：在線測量晶體形態、平均尺寸、顆粒大小分布

• 測量濃度：可高達50%固體顆粒濃度(與顆粒形狀相關)

• 工作溫度：-20℃ - 120℃

性能特征：

• 特殊設計的探頭(相機/鏡頭/光源)可廣泛地適用于許多困難物系（尤其是非透明顆粒物系及高固體濃度）。 探頭具有耐腐蝕性，能夠對ph值1~12范圍內的樣品進行測量。

• 由于特殊的光源設計,本系統可有效地防止顆粒沉積/粘結于探頭上。

• 根據不同物系及客戶要求,本系統可設計不同方案(包括氣體清理系統)。

• 強大的圖像處理功能可實現顆粒多尺度分割, 計算顆粒形狀參數 (主元素分析和傅立葉變換)，聚類分析和定量產品/過程控制。