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催化劑高溫回轉焙燒窯500kg

項目概述與核心設計需求

本項目旨在設計一套高性能、高精度、智能化的催化劑專用高溫回轉焙燒窯系統。該系統需滿足現代催化劑生產與再生過程中對溫度、氣氛和環保的苛刻要求，確保催化劑產品的活性、選擇性與穩定性。

核心設計需求：

控溫： 工作溫度范圍300-1200℃，爐內恒溫區控溫精度需達到±3~5℃，防止催化劑活性組分（如貴金屬、分子篩）因溫度波動而燒結或晶型破壞。

多氣氛兼容： 系統必須支持氧化（如空氣、O?）、還原（如H?/N?）、惰性（如N?、Ar） 等多種工藝氣氛，并能實現快速、穩定、安全的自動切換，以滿足如汽車尾氣催化劑周期性氧化還原再生等特殊工藝。

嚴格環保標準： 廢氣排放需滿足中國《GB 37824-2025》及其他相關環保標準，有效處理VOCs、酸性氣體（HCl/SO?）及金屬粉塵，實現綠色生產。

高適應性： 系統設計需具備一定的柔性，能夠處理不同形態的催化劑，包括粉末、顆粒、蜂窩陶瓷載體等。

高可靠性與智能化： 關鍵部件長壽命設計，整體系統自動化程度高，具備遠程監控、數據記錄與追溯、故障診斷與安全聯鎖功能。

系統核心設計模塊詳細技術規格

高溫回轉窯爐體結構

回轉窯本體：

筒體材質： 采用310S或更高等級的耐熱不銹鋼，高溫區段可采用雙層結構（外層碳鋼，內層耐熱鋼）。

傾角與轉速： 變頻調速，范圍0.5-10 rpm，傾角可調（0-3°），以確保物料停留時間（RTD）可控。

密封系統： 采用魚鱗迷宮+氮氣氣封組合式密封，確保窯頭、窯尾在高溫下的高密封性，防止氣氛泄露和空氣進入。

內襯與加熱系統：

內膽材料： 采用多晶氧化鋁纖維模塊作為主保溫層（耐溫≥1600℃），熱面層增加碳化硅（SiC）耐磨涂層，以抵抗催化劑物料的化學侵蝕和機械磨損，特別適用于酸性分子篩（如ZSM-5）催化劑。

加熱方式：

主加熱： 硅鉬棒（MoSi?） 加熱元件，**使用溫度1800℃，適用于氧化性及惰性氣氛。

還原氣氛選項： 可選配石墨加熱器，專為還原性氣氛（H?/N?）設計。