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立式真空水淬爐
立式真空水淬爐

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

VVWQ-4040D

品牌

頂立科技

產(chǎn)地

湖南

樣本

暫無
湖南頂立科技股份有限公司

金牌會(huì)員

|

第13年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    其他
  • 燒結(jié)氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±5
  • 最高溫度:

    1350
  • 額定溫度:

    1350
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立式真空水淬爐

產(chǎn)品描述:

立式真空水淬爐主要用于航空航天行業(yè)中的鈦合金固溶處理,如TC4、TC16、TC18、TC21等材料,儀表彈性元件中的鈹青銅固溶處理、航天傳感器中的鎳基、鈷基高彈性合金3J1、3J21和鎳基恒彈性合金3J53等精密合金固溶處理,核能領(lǐng)域中17-4PH、410等不銹鋼的固溶處理等。

應(yīng)用范圍:

鈦合金固溶處理(如TC4、TC16等)、鎳基、鈷基高彈性合金3J1、3J21和鎳基恒彈性合金3J53等


立式真空水淬爐技術(shù)特征

爐體是立式雙室結(jié)構(gòu),依據(jù)實(shí)際狀況可選擇一體式結(jié)構(gòu)或分體式結(jié)構(gòu);

工件承載方式:承載式,相比其它吊柜式結(jié)構(gòu)更安全;

加熱室采用鉬屏結(jié)構(gòu);鉬加熱帶采用背絕緣技術(shù);

全過程不需要惰性氣體參與,Ar氣消耗量為零;

配置一個(gè)裝料室,可實(shí)現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn);

爐膽經(jīng)模塊化優(yōu)化設(shè)計(jì),爐溫均勻性好;

垂直升降料車構(gòu)成的淬火機(jī)構(gòu),相比臥式傳動(dòng)淬火機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)移時(shí)間更短;

專有技術(shù),無須充入其它氣體壓制水蒸氣,徹底防治水蒸氣進(jìn)入加熱室并杜絕真空泵組污染;

淬火配置制冷機(jī),水溫可達(dá)5℃水淬效果更佳;

并且具有可擴(kuò)展性,提高生產(chǎn)效率;

水蒸氣對(duì)加熱室和真空機(jī)組零污染。


立式真空水淬爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào)VVWQ-3030DVVWQ-4040DVVWQ-5050DVVWQ-6060DVVWQ-8060D
有效熱區(qū) D×H(mm)300×300400×400500×500600×600800×600
裝載重量(Kg)5075150200300
加熱功率(Kw)6090120150210
**溫度(℃)13501350135013501350
溫度均勻性(℃)±5±5±5±5±5
真空度(Pa)4×10-3/6×10-44×10-3/6×10-44×10-3/6×10-44×10-3/6×10-44×10-3/6×10-4
壓升率(Pa/h)
≤0.26≤0.26≤0.26≤0.26≤0.26
≤0.67≤0.67≤0.67≤0.67≤0.67
移送時(shí)間(S)≤6≤6≤6≤6≤6
淬火介質(zhì)純凈水純凈水純凈水純凈水純凈水

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整,不作為驗(yàn)收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。


立式真空水淬爐配置選擇

雙室垂直結(jié)構(gòu)形式:整體式、加熱室移動(dòng)式、水槽移動(dòng)式

爐膽:鉬加熱元件與全金屬隔熱屏合成結(jié)構(gòu)

真空泵組和真空計(jì): 進(jìn)口、高品質(zhì)國產(chǎn)

PLC:西門子、歐姆龍、三菱

控溫儀表:島電、歐陸、霍尼韋爾

熱電偶:K型分度號(hào)、N型分度號(hào)、S型分度號(hào)

記錄儀:有紙記錄儀、無紙記錄儀

人機(jī)界面:模擬屏、計(jì)算機(jī)觸摸屏

電器元件:高品質(zhì)國產(chǎn)、施耐德、西門子

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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頂立科技再添兩項(xiàng)國際領(lǐng)先科技成果

近日,頂立科技兩項(xiàng)自主研發(fā)成果通過權(quán)威機(jī)構(gòu)評(píng)價(jià),均被認(rèn)定為整體技術(shù)達(dá)到國際領(lǐng)先水平。其中,“天然石墨高溫綠色提純技術(shù)與裝備”通過中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)科技成果評(píng)價(jià),“第三代半導(dǎo)體用高均勻高致密TaC涂層

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先進(jìn)復(fù)合材料高溫?zé)峁ぱb備發(fā)展趨勢(shì)

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