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CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。
產品特點
u 采用閉環控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。
u 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，*多100個階段。
u 內置水平校準裝置，**限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。
u 多重安全保護
電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；
蓋子自鎖功能，防止飛片蓋子彈開傷人；
雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，**限度保證實驗人員安全。
u 一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
u 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯（NPP-H）旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
u 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。
技術參數
型號 | 轉速（轉/分） | 轉速穩定度 | 勻膠時間 | 旋涂基片尺寸mm | 外型尺寸（LxWxH）mm |
SC1 | 50-10000 | ±1％ | 0-2000S | 圓片Φ5-Φ100,方片**100x100 | 310x260x250 |
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等離子處理英文叫（plasmacleaner）又稱等離子清洗機，等離子表面改性設備,電漿清潔機,等離子表面處理機,等離子體表面處理設備,等離子蝕刻機,等離子清洗器,等離子清洗儀，等離子體材料表面改性處
等離子表面處理儀是有用的對外表進行清洗、活化和涂層的處理工藝之一，能夠用于處理各種資料，包括塑料、金屬或許玻璃等。 等離子表面處理儀是什么
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