表面分析設備UHV超高真空腔體

表面分析超高真空系統設備, 提供樣本表面在分析過程時維持潔凈, 以利縱深分析。

表面分析設備CF300 Flange超高真空腔室

材質：304S.S.

表面處理：電解拋光

規格：CF300 Flange 圓柱形 UHV超高真空腔室

泄漏率<8 x 10-11mbar.l/sec

工作壓力<1 x10-10 torr

RGA總壓<1 x10-9 torr時， 45amu以上物質總分壓<0.1%

高科技真空系統環境制程的開發初期都需要在實驗室進行許多測試，Htc日揚真空制造之客制化真空腔體裝配于多種實驗設備，為研究者提供了適當的工具以進行各項實驗。 

Htc日揚真空已建立的實績包括各種實驗用真空鍍膜腔體、太空腔仿真裝置、表面分析系統、光學量測系統及氣體檢測設備等，另外也承制了國內外同步輻射中心超高真空系統的腔體、真空鍍膜機、蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、離子鍍膜機和等離子化學沉積真空裝置學術研究。。

 歡迎聯系我們，Htc日揚真空樂意為您提供UHV超高真空腔體(箱體)解決方案