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產品簡介：
EVG 610是一款入門級光刻機，支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式，可選配背面對準模塊。也可用于鍵合對準及納米壓印光刻（NIL），是科研開發用戶的理想選擇。
主要特點及參數：
·**支持8英寸（200mm）晶圓
·頂部及底部對準：
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±2μm
紅外對準精度≤±2μm（取決于襯底材料）
鍵合對準精度≤±2μm
納米壓印對準精度≤±2μm
·支持汞燈或UV-LED光源
·自動楔形補償程序
·可選配功能：
鍵合對準
紅外對準
納米壓印光刻（NIL）
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