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10-20萬元型號
A500品牌
普析產地
北京樣本
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內容
儀器主要特點：
1. 性能優越
全反射非球面消色差光學系統，采用自研紫外高反射率鍍膜技術，獲得優越的光斑均勻性和光通量，大幅提高儀器信噪比。
2. 一體化平臺設計，保證光學系統穩定性
采用一體化平臺設計，合理的器件布局，確保優異的熱穩定性和抗震性能。
3、超強的扣背景能力
火焰和石墨爐均采用偏振塞曼模式 ，可以在全波長范圍內進行塞曼背景較正，可獲得1Abs時150倍以上， 2Abs 時100倍以上的出色的扣背景性能！
4、采用雙檢測器，有利于長期工作穩定性
兩路偏振光，對應同時工作的雙檢測器，可以實時進行背景校正，以獲得精確的檢測結果。
基線穩定性優于0.0004@30min
暫無數據！
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