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立式爐管清洗設備專為半導體、光伏、LED等行業的高溫爐管（如CVD爐管、擴散爐管、退火爐管）設計，用于清除爐管內壁沉積的硅料、氧化物、金屬顆粒及有機物殘留。通過高效化學清洗與物理剝離結合，恢復爐管的熱傳導性能和工藝穩定性，延長設備使用壽命，同時避免因污染導致的晶圓良率下降或工藝偏差。
立式結構與多向清洗
垂直清洗設計：針對立式爐管深孔結構，采用自上而下的噴淋與超聲波清洗模式，確保清洗液均勻覆蓋管壁，避免死角殘留。
360°無死角沖洗：內置旋轉噴頭與多角度噴嘴，通過高壓渦流沖擊分解頑固沉積物，清洗效率較傳統方式提升50%以上。
復合清洗工藝
化學清洗段：配置酸液（如HF/HNO?混合液）、堿液（如KOH溶液）及超純水沖洗槽，可針對不同污染物（如硅結垢、金屬氧化層）自動切換清洗方案。
超聲波輔助：高頻超聲波空化效應剝離微小顆粒，尤其適用于直徑≤5mm的深孔爐管內壁清洗。
熱解碳化模塊：可選配高溫（**800℃）惰性氣體環境，用于去除有機物焦化層或碳沉積。
智能控制與安全保障
PLC程序化操作：7英寸觸摸屏預設多種清洗工藝（如標準清洗、重金屬去除、碳化硅專用清洗），支持參數自定義與數據存儲。
實時監控系統：監測清洗液溫度、pH值、液位及流量，異常時自動報警并停止運行。
雙重防腐蝕設計：清洗槽體采用PFA涂層+PTFE內襯，耐氫氟酸、強堿等腐蝕性介質；電氣元件全密封，避免酸堿侵蝕。
高效干燥與潔凈度保障
真空干燥系統：清洗后通過低溫真空（≤10Pa）快速脫水，防止水漬殘留導致二次污染。
無塵環境：干燥腔體配備HEPA過濾器（≥0.3μm顆粒過濾效率99.99%），確保爐管出口潔凈度達到Class 5標準。
高兼容性：適配直徑5-150mm、長度≤2米的立式爐管，支持單管或多管并行清洗。
低損傷率：柔性清洗噴頭與緩沖夾具設計，避免機械應力導致爐管變形或劃痕。
節能環保：水循環系統重復利用清洗液，酸堿廢液分類回收率≥90%；熱能回收裝置減少能源消耗。
長壽命設計：核心部件（如超聲波振子、耐腐蝕泵）壽命≥3000小時，維護成本低。
半導體制造：清洗擴散爐、LPCVD爐管內壁的磷硅玻璃（PSG）殘留及金屬污染。
光伏行業：清理多晶硅鑄錠爐、PECVD爐管中的硅粉沉積與氮化硅薄膜。
LED外延工藝：去除MOCVD反應腔體內的碳化物與金屬有機殘留。
科研實驗：高校或研究所高溫爐設備的爐管維護清洗。
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