推薦別讓對手搶先！蘇州會議驚現 4 大涂層黑科技，直接擊穿行業天花板！

在第三代半導體碳化硅（SiC）的量產戰場上，涂層工藝的 1% 性能提升，能讓器件良率飆升 8%，單爐次成本直降 3 萬元！從外延生長到刻蝕工藝，每一道涂層工序都是決定產品成敗的關鍵防線。2025年8月20-21日在江蘇[更多]