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單步驟制程

推薦研究人員找到單步驟制程打造圖案化石墨烯新方法

中國粉體網訊  伊利諾大學香檳分校(University of Illinois, Urbana-Champaign)的研究人員據稱找到一種單步驟的室溫制程,能以簡單的遮光罩(shadow mask)快速為石墨烯電路制圖,并[更多]

資訊 石墨烯圖案化單步驟制程新方法
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