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化學機械研磨

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中國粉體網訊 近日,盛美半導體設備(上海)股份有限公司通過微信公眾號平臺宣布,其推出了新型化學機械研磨后(Post-CMP)清洗設備。盛美上海指出,這是公司第一款Post-CMP清洗設備,該設備可用于制造高質量襯底化學機械研[更多]

資訊 盛美半導體化學機械研磨CMP清洗設備碳化硅
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