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稀土拋光材料

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中國粉體網(wǎng)訊 化學機械拋光(CMP)技術(shù)是實現(xiàn)材料全局表面平坦化的重要手段,稀土鈰基磨料因其具有顆粒硬度適中、可與被拋光材料發(fā)生化學反應(yīng)、可回收性和資源豐富等優(yōu)勢是目前應(yīng)用最廣泛的CMP磨料。在稀土材料用于拋光粉之前,人們通[更多]

資訊 稀土鈰基磨料化學拋光CMP稀土拋光材料陳傳東
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