中國粉體網訊 2024年12月27日消息，國家知識產權局信息顯示，科菲材料技術(浙江)有限公司取得一項名為“一種氮化鋁陶瓷拋光工藝”的專利，助力獲得表面粗糙度小且無刮傷的氮化鋁陶瓷基板。
發明專利申請 來源：國家知識產權局
氮化鋁是原子晶體，屬類金剛石氮化物，最高可穩定到2200℃。室溫強度高，且強度隨溫度的升高下降較慢。導熱性好，熱膨脹系數小，是良好的耐熱沖擊材料。抗熔融金屬侵蝕的能力強，是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體，介電性能良好，用作電器元件也很有希望。砷化鎵表面的氮化鋁涂層，能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。室溫下與水緩慢反應，可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成，產物為白色到灰藍色粉末。
氮化鋁的拋光對其應用來說十分重要。化學機械拋光( CMP )是一種工件表面全局平坦化的工藝技術，被應用于微納米級材料表面的拋光。化學機械拋光系統主要由拋光液、拋光墊和拋光頭三部分組成，其基本原理是工件材料表面與拋光液中的氧化劑發生化學反應，生成一層軟質層，在外加壓力下磨粒與工件材料表面發生機械磨削作用去除軟質層，然后工件表面再次發生化學反應，通過化學作用和機械作用交替進行，直至工件表面拋光完成。
科菲材料技術(浙江)有限公司本次發明屬于研磨拋光技術領域，具體涉及一種氮化鋁陶瓷拋光工藝。該拋光工藝包括以下步驟：將氮化鋁陶瓷基板置于拋光墊上，加入拋光液進行拋光；所述拋光液由如下重量份組分制成：將15‑20份復合磨料、2‑4份氧化劑、8‑10份功能化合物和60‑70份水混合成溶液，并使用有機酸調節溶液的pH值為4‑4.5。發明所提供的拋光液具有良好的懸浮穩定性及抑菌性能，使用拋光液對氮化鋁陶瓷基板進行拋光處理，具有較高的拋光速率，拋光效果好，能夠獲得表面粗糙度小且無刮傷的氮化鋁陶瓷基板。
來源：國家知識產權局
科菲材料技術(浙江)有限公司前身為衢州市科飛陶瓷有限公司，創辦于2008年，是申瀾材料的成員企業。公司是一家充滿活力的科技型創業公司，主要從事與半導體先進封裝相關的電子陶瓷封裝基板的研發、生產、銷售與服務。公司堅持材料制備與精密加工的緊密結合，為客戶提供快速的一站式綜合解決方案。公司以技術為支點，以高速發展的先進封裝技術為基礎，專業生產及加工高性能氮化鋁、氧化鋁、微波介質材料、石英、藍寶石等各類電子功能材料。以材料為基礎，應用為導向，面向微電子、光電子、功率電子、微波射頻等領域，為技術發展提供材料支撐。
來源：科菲材料技術(浙江)有限公司官網
參考來源：
[1] 王東哲等，化學機械拋光液的研究現狀
[2] 科菲材料技術(浙江)有限公司官網
[3] 國家知識產權局
（中國粉體網編輯整理/山林）
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