中國粉體網訊  南通晶體有限公司近期完成工商變更，國家大基金三期旗下的國投集新（北京）股權投資基金（有限合伙）正式成為其新增股東，同時公司注冊資本由3億元人民幣增至4億元人民幣，國投集新持股比例達25%。

作為此次入股的核心主體，國投集新基金背景深厚。該基金成立于2024年，出資額高達710.71億元，核心出資方為大基金三期；股權穿透后，其控股股東為國家開發投資集團有限公司，實際控制人為國務院國資委，凸顯出鮮明的國家級戰略投資屬性。

南通晶體的核心競爭力與行業定位同樣值得關注。公司位于江蘇南通，注冊資金2億元，投資規模超10億元，公司專注于激光、半導體及精密光學等領域應用的高性能合成石英材料的研制，年產高性能合成石英玻璃材料近百噸。其核心產品覆蓋IC半導體掩膜版用石英、光掩模系列基材等關鍵品類，直接對接半導體產業鏈核心需求。

技術與團隊層面，南通晶體的優勢尤為突出。公司核心團隊為江蘇省“創新創優博士團隊”，掌握VAD、OVD、CVD等先進的合成石英制備技術，成立了“江蘇省全光譜合成石英氣相沉積技術人才攻關聯合體”致力于打造高性能合成石英的研發中心、制造中心與檢測中心。

從行業背景來看，光掩模（又稱光刻掩模版、光罩掩模版）是微電子制造的核心圖形轉移母版，廣泛應用于平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業，而玻璃基板是其主要原材料。近年來，半導體技術向高集成度快速迭代，光刻工藝持續升級，對掩膜版材料的精度要求不斷提升。

當前國內半導體掩膜版行業雖發展勢頭良好，但受起步晚、行業壁壘高的影響，仍高度依賴進口，尤其是高端產品存在顯著供需缺口。隨著國內晶圓廠產能持續擴張，掩膜版市場需求將穩步增長，國產替代空間極為廣闊。而南通晶體的產品恰好精準匹配這一需求，其半導體光掩模版用合成石英材料具有低金屬雜質含量（高純）、紫外高透過率、高光學均勻性、低羥基含量、低應力雙折射及優異的耐輻照性能等特點，可批量供應滿足i-line/g-line/KrF/ArF級光掩模版用石英材料，包括砣料、錠料、毛坯片、粗拋片等，通過生產加工工藝控制，可保證良好的尺寸精度、應力及光學均勻性。

此次國投集新將南通晶體列為首批公開投資標的之一，不僅是對南通晶體技術實力與市場潛力的認可，更再次明確了大基金三期在半導體關鍵材料領域的戰略布局方向，為推動國內半導體產業鏈核心環節自主可控注入新動能。

來源：企查查、科創板日報

南通晶體.光掩模用熔石英材料研發進展

（中國粉體網編輯整理/初末）

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