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邀請函 | 第二十五屆全國半導體物理學術會議

邀請函 | 第二十五屆全國半導體物理學術會議
布勞恩  2025-10-11  |  閱讀:386

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第二十五屆全國半導體物理學術會議將于2025年10月16日至19日在湖南長沙隆重舉行。作為國內半導體物理領域規模最大、影響力最廣的學術盛會之一,本次會議將匯集包括多位院士在內的2000余位專家學者,共同探討半導體物理的最新進展與未來趨勢。


本次會議由中國物理學會半導體物理專業委員會、中國科學院半導體研究所主辦,湖南大學、湖南師范大學、國防科技大學承辦,中國電子學會半導體與集成技術專業委員會協辦。


MBRAUN 作為半導體工藝設備供應商,很榮幸受邀參與此次盛會。我們將攜最新一代高性能鍍膜系統亮相會議現場,與各界同仁共話半導體制造中的關鍵工藝與創新解決方案。


展位號:A07

會議時間和地點

  • 會議時間:2025年10月16-19日(10月16日全天報到)

  • 會議地點:長沙北辰國際會議中心

  • 會議網址:


參展設備搶先知


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本次參會展品是布勞恩的重點產品——真空鍍膜系統。

MBRAUN開發多種真空鍍膜系統,具備豐富的可選配置和定制方案,應用于半導體、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、OLED / PLED等各種前沿技術領域的研發中,具有以下特點:

  • 靈活緊湊的模塊化設計

  • 獨立式或與手套箱集成

  • 可定制樣品臺以及掩膜板

  • 可定制多種蒸發源(金屬源、電子束、高/低溫溫控源)

  • 可定制多種濺射源(圓靶2"~6" 、方形靶、低損傷濺射等)

  • 膜厚均勻性:+/-3 % ,特殊定制可實現+/-1 %

  • 全自動控制傳樣系統實現多腔室樣品互傳

  • 全自動鍍膜控制系統實現配方化工藝參數管理


我們誠摯地邀請您撥冗出席本次盛會,與MBRAUN一起探索半導體工藝的未來路徑,共同推動中國半導體技術的創新與發展。

MBRAUN——工藝創新,共鍍未來。

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