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近日，在儀器信息網主辦的權威年度評選中，四方儀器自主研發的固定污染源廢氣氨排放連續監測系統（NH3-CEMS）GasTDL-3001憑借技術創新性與應用前景，從243臺參評新品中脫穎而出，榮獲2025年度“3i獎-科學儀器行業優秀新品"提名獎。

此次獲獎的固定污染源廢氣氨排放連續監測系統（NH3-CEMS）是四方儀器在激光氨逃逸監測技術基礎上的重磅升級。其研發背景緊密契合國家環保政策趨勢：2024年起，水泥、焦化等行業超低排放實施意見已明確要求氨因子自動監測；2025年中央環保督察更將部分企業燃煤鍋爐“氨逃逸"問題列為重點。為助力企業實現精準監測與高效合規，四方儀器基于TDLAS技術，推出集成度更高、適應性更強的二代產品，可獨立運行，也可無縫對接現有CEMS系統。

四方儀器固定污染源廢氣氨排放連續監測系統（NH3-CEMS）GasTDL-3001

相較于一代產品，二代系統實現了三大核心躍升：

1. 高度集成，靈活部署：通過結構優化與模塊化設計，系統體積與重量顯著降低，既可獨立使用，也可適配多種復雜工況與安裝場景。

2. 抗干擾更強，精度更高：采?TDLAS技術，有效避免背景氣體交叉干擾；抽取式測量方式，不受煙道內粉塵、溫度、壓?波動的影響。

3. 測量準確性更高：系統支持全程標定與校準功能，從流程上保障數據的長期準確性與溯源性。

作為氣體分析領域企業，四方儀器始終以"技術創新驅動環保升級"為使命。此次獲獎不僅是對該產品技術實力的肯定，也印證了四方儀器“政策帶領研發，技術賦能客戶"的戰略路徑——從CEMS核心儀表到專業的氨逃逸監測系統，四方儀器持續助力企業在“脫硝效率"與“氨排放控制"之間實現精準平衡與雙重合規。