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20-30萬元型號
1200度小型PECVD系統(tǒng)品牌
中環(huán)產(chǎn)地
天津樣本
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產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成
PECVD系統(tǒng)配置；
1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（單獨購買）
產(chǎn)品特點
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實現(xiàn)快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
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教授簡介王紅潔教授，現(xiàn)任西安交通大學材料學院副主任，中國材料研究學會環(huán)境材料分會理事，陜西省機械工程學會粉末冶金分會理事。主要研究方向為先進陶瓷及其復合材料、碳／陶梯度材料等。先后主持國家自然科學基金
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