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紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)

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美國(guó)

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German First-Nano System 德國(guó)韋氏納米

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美國(guó)NXQ以**的性能,經(jīng)濟(jì)的價(jià)格,深受全球用戶(hù)喜愛(ài),截至2016年底,超過(guò)5000臺(tái)NXQ曝光系統(tǒng)遍布全世界科研實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)中心。

NXQ4000系列半自動(dòng)掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了獨(dú)立的模塊化設(shè)計(jì),精準(zhǔn)控制對(duì)準(zhǔn)和曝光等特點(diǎn),自動(dòng)程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲(chǔ)和使用,適合實(shí)驗(yàn)室多用戶(hù)使用。

該系統(tǒng)特點(diǎn):

  • 鍥型誤差補(bǔ)償系統(tǒng)----獨(dú)特的WEC設(shè)計(jì)

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準(zhǔn)控制

  • 視像分辨技術(shù)------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對(duì)準(zhǔn)控制-----可選配IR或OBS雙面對(duì)準(zhǔn)

使用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)

    • 微電子

    • LED/HBLED

    • 3D IC /晶圓制造工藝

    • 2.5D Interposer

    • MEMS

    • BioMEMS

    • 微流控芯片

    • 化合物半導(dǎo)體

    • 太陽(yáng)能(HCPV)

    • 光電子

型號(hào):

  • NXQ4006半自動(dòng)型(可處理**6英寸基片)

  • NXQ4008半自動(dòng)型(可處理**8英寸基片)

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