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該系統可以作為以下功能裝置：
1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異
2，具備所有研發級別的鍍膜要求
3，高效的沉積速率，鍍膜時間快
4， 實驗室中培訓的**工具
主要的特點和先進的功能：
1， 臺式，小型，快速
2，全自動化程序控制
3，單靶或多靶聯合濺射鍍膜，多路氣體管路
4，共聚焦設計，靶槍尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，襯底可做到200mm，旋轉1-20RPM，以及Load-lock配置
5，配置干泵+分子泵，可達高真空，適用高品質薄膜沉積。
6， 可做直流濺射，射頻濺射，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）
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