中國粉體網訊  據江西瑞思博新材料有限公司官網消息，近日，瑞思博與南昌大學就CMP拋光液項目舉行了隆重的合作簽約儀式。

半導體晶圓片 CMP 拋光液是半導體制造過程中的關鍵材料之一，通過拋光液中化學試劑的化學腐蝕和機械磨削的雙重耦合作用，在原子水平上去除表面缺陷，獲得全局平坦化表面，因此，拋光液對于提高晶圓表面平整度和光潔度起著至關重要的作用。

化學機械拋光液各組分  來源：王東哲等，化學機械拋光液的研究現狀

但是，盡管近年來我國在CMP拋光液國產化方面取得了顯著進步，但與國際先進水平相比仍存在一定的差距，關鍵技術尚未完全突破，部分高端產品仍依賴進口。

瑞思博與南昌大學的合作，將充分發揮雙方的優勢，加強在技術研發、人才培養等方面的合作，推動 CMP 拋光液項目的發展，提高我國半導體材料的自主創新能力和市場競爭力，也為雙方帶來更多的發展機遇。

來源：江西瑞思博新材料有限公司官網

江西瑞思博新材料有限公司成立于1998年，是國內規模化、專業化生產高端環保工業清洗劑的國家高新技術企業。公司已通過ISO9001:2008質量管理體系認證、ISO14001:2004環境管理體系認證及ISO45001:2018職業健康安全管理體系認證，現有職工160多人，其中大專以上學歷人員占比超過66%。公司生產基地坐落于江西宜春，占地面積135畝，同時在北京、上海、深圳、成都、西安等全國十幾個重點城市設立了辦事處及技術服務團隊。

來源：江西瑞思博新材料有限公司官網

公司現有一批具有豐富實踐經驗的精細化工專家和數千平方米的精細化工重點實驗基地，現已獲得數十項國家發明專利。匯聚著先進的設備和優秀的人才，憑借雄厚的技術力量和完善的質量服務保障體系，依靠持續的科技創新和嚴格的科學管理，相繼推出了工業精密清洗、軌道交通清洗、新能源維護保養、軍品維護保養四大類清洗劑，廣泛應用于汽車制造、五金加工、機械制造、軌道交通、軍隊、電力、鋼鐵等諸多清洗領域。

來源：江西瑞思博新材料有限公司官網

此次合作是產學研結合的一次有益嘗試，將為雙方帶來更多的發展機遇。相信在雙方的共同努力下，半導體晶圓片 CMP 拋光液項目將取得豐碩的成果，為我國半導體產業的發展做出積極的貢獻。

參考來源：

[1] 半導體封測、前瞻產業研究院、江西瑞思博新材料有限公司官網

[2] 王東哲等，化學機械拋光液的研究現狀

[3] 嚴嘉勝等，硅晶片化學機械拋光液的研究進展

（中國粉體網編輯整理/山林）

注：圖片非商業用途，存在侵權告知刪除！