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一、核心突破：打破海外壁壘，邁入國際一流

國內高純度石英材料領域近期迎來重大突破 —— 精硅科技依靠自主研發的高端再合成技術，實現了超高純石英砂的穩定量產。這一成果標志著我國在光刻級石英材料領域成功突破海外技術壁壘，正式邁入國際一流行列，為中國光刻產業鏈注入關鍵 “強心劑”。

二、關鍵背景：石英錠 —— 光刻機鏡頭的 “隱形冠軍”

光刻機是半導體制造中精度最高、成本最昂貴的核心設備，其分辨率直接決定芯片制程水平；而光刻機光學系統的核心部件 “鏡頭”，需滿足極高的透光性、熱穩定性和光學均勻性，普通玻璃完全無法勝任，超高純度合成石英錠是唯一選擇（尤其適配極紫外 EUV、深紫外 DUV 光刻機）。

這類石英錠對材料特性要求苛刻，具體包括：

純度極高：雜質總含量需低于 0.1ppm；

缺陷極少：內含氣泡和內部缺陷需控制在極低水平；

熱穩定性極強：激光照射下熱膨脹系數近乎為零。

微量雜質或內部缺陷會導致光線散射、折射率變化，直接造成芯片制造良率下降甚至失敗。因此，作為石英錠源頭材料的超高純石英砂，其純度直接決定了最終光刻鏡頭的性能上限。

三、技術路徑：從天然礦石到光刻級材料的提純邏輯

天然石英礦石含有大量金屬雜質（如鐵、鋰、鉀等）及內部缺陷，需通過復雜的物理 + 化學提純流程，才能達到光刻級純度。精硅科技構建了全鏈條技術體系，具體流程如下：

1、源頭把控：依托自有石英礦山，對礦石進行嚴格分選與破碎，精準控制晶體粒徑，保障原料一致性；

2、深度除雜：采用高溫氯化、酸浸清洗等工藝，深度去除礦石中的金屬雜質；

3、再合成優化：通過高端再合成技術，在高溫高壓環境下讓高純硅源重新結晶，徹底消除內部氣泡與雜質分布不均問題。

四、成果落地：7N 純度量產 + 商業化驗證

作為國內少數具備超高純石英砂全鏈條生產能力的企業，精硅科技已實現兩大關鍵成果：

產能與純度突破：建成 10 萬噸級高純石英砂產能，并成功攻克 7N 純度（99.99999%）技術難關，關鍵雜質元素（Fe、K、Na 等）含量降至 0.01ppm 以下；

商業化驗證通過：目前 7N 超純石英砂已實現批量供應，且在多家下游鏡頭制造企業、半導體設備廠商中完成驗證，性能比肩甚至超越國際主流廠商產品。

五、行業意義：國產替代 “深水區” 的關鍵一步

此前，超高純石英砂長期被海外企業壟斷，是我國半導體產業鏈自主化進程中的 “卡脖子” 環節。精硅科技此次實現 7N 級超高純石英砂的量產與商業化應用，具有兩大核心意義：

1、筑牢材料基礎：為光刻機鏡頭國產化提供了關鍵原料支撐，填補了國內光刻級石英材料的產能與技術空白；

2、提升全球競爭力：顯著增強國內在高端材料領域的全球話語權，推動半導體產業鏈自主化向 “深水區” 邁進。

未來，隨著芯片制程持續微縮、光刻技術迭代升級，對石英材料的純度與性能要求將進一步提高。精硅科技已率先突破 7N 技術門檻，后續將繼續加碼研發與產能擴張，助力中國半導體產業實現從材料到設備的全方位自主可控。