CMP拋光液,國產之路走到了哪兒?
中國粉體網訊 近年來我國在CMP拋光液國產化方面取得了顯著進步,中國本土CMP 拋光液企業不斷崛起,國內市場競爭格局隨之變化,國產替代進程將進一步加速。化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術被譽為是當今時代能實現集成電路(IC)制造中晶圓表面全局平坦化的目前唯一技術,化學機械拋光的效果直接影響到芯片最終的質量和成品率。 通過拋光液中化學試劑的化學腐蝕和機械磨削的雙重作用,在原子水平上去除表面缺陷,獲得全局平坦化表面,因此,拋光液對拋光效果起著至關重要的影響。 CMP工藝 來源:何潮等,半導體材料CMP過程中磨料的研究進展一、CMP拋光液1. CMP拋光液..【詳細】
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