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EM81系列超高分辨場發射掃描電子顯微鏡
EM81系列超高分辨場發射掃描電子顯微鏡

參考價格

面議

型號

EM81

品牌

kyky

產地

北京

樣本

暫無
北京中科科儀股份有限公司

高級會員

|

第8年

|

生產商

工商已核實

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核心參數
  • 探測器:

    高真空二次電子探測器
  • 加速電壓:

    02kv-30kV
  • 電子槍:

    Schottky 肖特基場發射電子槍
  • 電子光學放大:

    光學放大1x-100x
  • 光學放大:

    1x-3000000x
  • 分辨率:

    SE 0.9nm@30kv: 3nm@1kV
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KYKY-EM81系列超高分辨場發射掃描電子顯微鏡

一、產品簡介

KYKY-EM8100高分辨場發射掃描電子顯微鏡,采用鏡筒加速技術、低像差錐形物鏡等全新電子光學設計,能夠在低電壓下實現亞納米級的成像效果,對各類材料具有廣泛的適用性,能夠滿足多種科研和工業領域的測試需求。

 

01.png 

 

二、產品特點

亞納米級分辨率

低像差錐形物鏡

大束流

自動化控制系統

超大樣品倉

鏡筒加速技術


三、技術參數

02.png 

 

 

四、產品功能

1、二次電子探測器

高信噪比,高帶寬 · 大景深,表征樣品表面形貌結構

 

2、不同探測器同時成像

· 顯示SEBSE 雙通道圖像

· 可任意設置不同探

05.png 

· BSE探測器,反應樣品表面的成分特征

06.png 

3、陰極熒光成像

 

4 大圖拼接

· 樣品區全域視場矩陣自動規劃,拍照流程無需人工干預

· 百千張級數據量快速拼接實時預覽,構建全域清晰掃描大圖

圖片3.png 

 

5 粒度分析

采用深度學習的復合圖像處理算法,自動識別比例尺,精準識別圖像中的顆粒,多種形態參數的統計與導出,

圖片4.png 

摻鋁碳酸鈷

圖片5.png 

多種形態參數結果

圖片6.png 

多種形態數據輸出

 

6 關鍵尺寸測量

具備距離,角度,水平線/垂直線/圓徑測算等,豐富的圖像測量功能

圖片7.png 

 

五、定制能力

1、電子束曝光(EBL

功能:基于掃描電鏡的電子束曝光系統(EBL),能夠精確地控制電子束的掃描路徑和能量沉積,從而實現高分辨率的圖形曝光。該系統采用先進的電子束掃描控制技術,支持靈活多樣的圖案設計和精確控制,不僅具有電子束曝光功能,還保留了原SEM 的觀測功能,這使得用戶可以在同一臺設備上完成樣品的觀測和加工,提高了工作效率和便利性。

參數:*小束斑 優于5nm;  探針電流 1pA~20nA;  線寬 優于15nm

應用場景

科研教學、微電子制造、原型器件開發、納米材料制備、生物醫療研究

應用案例

二維周期陣列結構加工

50nm線寬/周期200nm光柵結構

圖片8.png 

60nm直徑點陣周期結構

圖片9.png 

 

聲表面波碳納米管諧振器耦合器件

圖片10.png 

 


場效應晶體管電極

圖片11.png 

 

2、真空互聯

真空互聯掃描電鏡用于對樣品車傳遞過來的產品進行自動檢測,分析其表面晶粒形態大小分布等信息,評估其薄膜的膜質量情況。

真空互聯系統可以在真空狀態下對樣品進行預處理,并傳遞到掃描電鏡內進行觀測.

自動檢測和反饋系統,對樣品標簽、位置狀態、樣品交接進行監控和記錄,可以清晰的了解樣品傳輸狀況。

圖片12.png 

3、激光聯用-超快電鏡

功能:

超快電鏡利用激光、電場等外界刺激使樣品達到激發態。使用時間延遲可調的另一束激光作用于電鏡燈絲,產生脈沖電子束照射于樣品表面進而收集表面逸出的二次電子對激發瞬態進行表征。

 

掃描電鏡電子槍及發射陰極改造

改造后的電子槍 

1)激光入口 ;

2)探測激光引入示意圖,與電子束方向呈一定角度夾角;

3)從激光入射口可見陰極工作時的發射狀態。

圖片13.png 

 

應用領域

超快結構動力學,新型光場隱含物態調控、自由電子量子光學等。



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產品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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