中國粉體網訊  半導體芯片制程中所用的光刻機是最重要、最復雜、最昂貴的集成電路制造裝備，也被稱為半導體制造的“母機”，其技術難度之大、單價之高在全球均屬罕見，又被譽為“超精密尖端裝備的珠穆朗瑪峰”，挑戰著人類超精密制造的精度和性能極限。光刻機中的光學系統是其最關鍵且最復雜的部分之一，包括照明系統和投影物鏡兩大核心組成部分。投影物鏡是光刻機中實現精準成像的關鍵部件，它的主要作用是將掩模圖形按照一定縮放比例成像到硅片上。其中，投影物鏡鏡頭的材料大多采用熔融石英，據中國粉體網了解，可以穩定供應滿足193 nm光刻等級的熔融石英的廠家僅有德國Heraeus公司、Schott公司、美國Corning公司、德國蔡司公司等極少數幾家。（..【詳細】