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賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡
賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡

參考價格

面議

型號

Helios 5 DualBeam FIB

品牌

賽默飛世爾科技

產(chǎn)地

捷克

樣本

暫無
北京歐波同光學技術有限公司

金牌會員

|

第7年

|

代理商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 探測器:

    見參數(shù)
  • 加速電壓:

    500 V – 30 kV
  • 電子槍:

    見參數(shù)
  • 電子光學放大:

    見參數(shù)
  • 光學放大:

    見參數(shù)
  • 分辨率:

    0.6 nm@15 keV、1.0 nm@1 keV
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    新一代的賽默飛世爾科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 產(chǎn)品系列業(yè)界**的高性能成像和分析性能。它經(jīng)過精心設計,可滿足材料科學研究人員和工程師對*廣泛的 FIB-SEM 使用需求,即使是**挑戰(zhàn)性的樣品。


    Helios 5 DualBeam 重新定義了高分辨率成像的標準:**的材料對比度,*快、*簡單、*精確的高質(zhì)量樣品制備,用于 S/TEM 成像和原子探針斷層掃描(APT)以及**質(zhì)量的亞表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久經(jīng)考驗的性能基礎上,新一代的 Helios 5 DualBeam 進行了改進優(yōu)化,所有這些都旨在確保系統(tǒng)處于手動或自動工作流程的**運行狀態(tài)。


半導體行業(yè)技術參數(shù):



<


Helios 5 CXHelios 5 HPHelios 5 UXHelios 5 HXHelios 5 FX

樣品制備與 XHR 掃描電鏡成像*終樣品制備 (TEM薄片,APT)STEM 亞納米成像與樣品制備
SEM著陸電壓20 eV~30 keV20 eV~30 keV

分辨率

0.6 nm@15 keV0.6 nm@2 keV


1.0 nm@1 keV0.7 nm@1 keV



1.0 nm@500 eV
STEM分辨率@30 keV0.7 nm0.6 nm0.3 nm
FIB制備過程**材料去除束流65 nA100 nA65 nA
*終**拋光電壓2 kV500 V
TEM樣品制備樣品厚度50 nm15 nm7 nm
自動化
樣品處理行程

110×110

×65 mm

110×110

×65 mm

150×150

×10 mm

100×100

×20 mm

100×100×20mm+5軸(S)TEM Compustage
快速進樣器手動自動手動自動自動+自動插入/提取STEM 樣品桿





材料科學行業(yè)技術參數(shù):


<



Helios 5 CXHelios 5 UX
離子光學
具有**的大束流性能的Tomahawk HT 離子鏡筒具有**的大束流和低電壓性能的Phoenix 離子鏡筒
離子束電流范圍1 pA – 100 nA1 pA – 65 nA
加速電圧500 V – 30 kV500 V – 30 kV
**水平視場寬度在束重合點處為0.9 mm在束重合處點為0.7 mm
離子源壽命1,000 小時1,000 小時

兩級差分抽吸兩級差分抽吸
飛行時間校準飛行時間校準
15孔光闌15孔光闌
電子光學Elstar超高分辨率場發(fā)射鏡筒Elstar超高分辨率場發(fā)射鏡筒
磁浸沒物鏡磁浸沒物鏡
高穩(wěn)定性肖特基場發(fā)射槍提供穩(wěn)定的高分辨率分析電流高穩(wěn)定性肖特基場發(fā)射槍提供穩(wěn)定的高分辨率分析電流
電子束分辨率**工作距離下0.6 nm @ 30 kV STEM0.6 nm @ 30 kV STEM
0.6 nm @ 15 kV0.7 nm @ 1 kV
1.0 nm @ 1 kV1.0 nm @ 500 V (ICD)
0.9 nm @ 1 kV 減速模式*
在束流重合點0.6 nm @ 15 kV0.6 nm @ 15 kV
1.5 nm @ 1 kV 減速模式* 及 DBS*1.2 nm @ 1 kV
電子束參數(shù)電子束流范圍0.8 pA ~ 176 nA0.8 pA ~ 100 nA
加速電壓范圍200 V ~ 30 kV350 V ~ 30 kV
著陸電壓20 eV ~ 30 keV20 eV ~ 30 keV
**水平視場寬度2.3 mm @ 4 mm WD2.3 mm @ 4 mm WD
探測器Elstar 鏡筒內(nèi) SE/BSE 探測器 (TLD-SE, TLD-BSE)
Elstar 鏡筒內(nèi) SE/BSE 探測器 (ICD)*
Elstar 鏡筒內(nèi) BSE 探測器 (MD)*
樣品室內(nèi) Everhart-Thornley SE 探測器 (ETD)
紅外相機
高性能離子轉(zhuǎn)換和電子探測器 (SE)*
樣品室內(nèi) Nav-Cam 導航相機*
可伸縮式低電壓、高襯度、分割式固態(tài)背散射探測器 (DBS)*
可伸縮STEM 3+ 探測器*
電子束流測量
樣品臺和樣品樣品臺高度靈活的五軸電動樣品臺壓電陶瓷驅(qū)動 XYR 軸的高精度五軸電動工作臺
XY110 mm150 mm
Z65 mm10 mm
R360° (連續(xù))360° (連續(xù))
傾斜-15° ~ +90°-10° ~ +60°
**樣品高度與優(yōu)中心點間隔 85 mm與優(yōu)中心點間隔 55 mm
**樣品質(zhì)量樣品臺任意位置 500 g樣品臺任意位置 500 g
 0° 傾斜時** 5 kg
**樣品尺寸直徑 110 mm可沿樣品臺旋轉(zhuǎn)時直徑 150 mm可沿樣品臺旋轉(zhuǎn)時

優(yōu)中心旋轉(zhuǎn)和傾斜優(yōu)中心旋轉(zhuǎn)和傾斜

    更易于使用:

    Helios 5 對所有經(jīng)驗水平用戶而言都是*容易使用的 DualBeam 系統(tǒng)。操作人員培訓可以從幾個月縮短到幾天,其系統(tǒng)設計可幫助所有操作人員在各種高級應用程序上實現(xiàn)一致、可重復的結(jié)果。


    提高了生產(chǎn)率:

    Helios 5 和 AutoTEM 5 軟件的先進自動化功能,增強的可靠性和穩(wěn)定性允許無人值守甚至夜間操作,顯著提高樣品制備通量。


    改善時間和結(jié)果:
    Helios 5 DualBeam 引入全新精細圖像調(diào)節(jié)功能 FLASH (閃調(diào))技術。借助 FLASH 技術,您只需在用戶界面中進行簡單的鼠標操作,系統(tǒng)即可“實時”進行消像散、透鏡居中和圖像聚焦。自動調(diào)整可以顯著提高通量、數(shù)據(jù)質(zhì)量并簡化高質(zhì)量圖像的采集。平均而言,F(xiàn)LASH 技術可以使獲得優(yōu)化圖像所需的時間*多縮短 10 倍。


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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公司動態(tài)
"歐波同杯"失效分析賽圓滿結(jié)束!產(chǎn)教融合再譜新篇

2025年8月12日,由中國機械工程學會主辦,中國機械工程學會失效分析分會、北京航空航天大學承辦,歐波同集團獨家冠名的中國大學生機械工程創(chuàng)新創(chuàng)意大賽——“歐波同杯”失效分析賽在北京航空航天大學圓滿閉幕

熱烈祝賀!“歐波同杯”失效分析賽盛大啟幕

2025年8月10日,由中國機械工程學會主辦、中國機械工程學會失效分析分會與北京航空航天大學共同承辦、歐波同集團獨家冠名的中國大學生機械工程創(chuàng)新創(chuàng)意大賽——“歐波同杯”失效分析賽在北京航空航天大學沙河

倒計時4天!"歐波同杯”第十屆失效分析賽即將盛大啟幕

由中國機械工程學會主辦、歐波同集團獨家冠名的中國大學生機械工程創(chuàng)新創(chuàng)意大賽——"歐波同杯”第十屆失效分析賽將于2025年8月9日至12日在北京航空航天大學(沙河校區(qū))隆重舉行。歐波同集團誠邀

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掃描電鏡在水泥水合程度計算中的應用

水泥是熟料和硫酸鈣的混合物,比例約為95:5%。水泥是混凝土制造中必不可少的成分之一,是世界上使用最廣泛的建筑材料。熟料的礦物成分包括硅酸三鈣(C3S:Ca3SiO5)、硅酸二鈣(C2S:Ca2SiO

電鏡應用|鋰離子電池正極材料的改性研究(二)Apreo2在LiFePO4改性研究中的應用

隨著電動汽車市場的不斷發(fā)展,鋰離子電池作為電動汽車的主要動力源受到越來越多的關注。在鋰離子電池中,正極材料是決定電池性能的關鍵因素之一。LiFePO4作為一種新型正極材料具有諸多優(yōu)點,如高安全性、高能

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  • 賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡的工作原理介紹?
  • 賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡的使用方法?
  • 賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡多少錢一臺?
  • 賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam FIB雙束電鏡使用的注意事項
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