德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機DWL 2000/4000

科研型與量產(chǎn)型兼具的激光直寫設備高速、高靈活度與高精度的光學系統(tǒng)4096階灰階光刻功能

DWL2000和DWL4000激光光刻系統(tǒng)為快速、靈活的高分辨率圖形產(chǎn)生器，用于制作光罩和直寫。這些系統(tǒng)的寫入面積高達200x200mm2與400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微結(jié)構(gòu)應用里，需快速構(gòu)圖于光罩和硅片的**方案。

除了高分辨率的2D圖形之外，還提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻膠中創(chuàng)建復雜的3D結(jié)構(gòu)。與其他技術(shù)相較，此光刻技術(shù)能夠在大面積中產(chǎn)出3D微結(jié)構(gòu)。優(yōu)化評估灰度曝光的特殊軟件工具，減少新圖像設計的循環(huán)時間。為了確保*低的表面粗糙度和形狀一致性，該系統(tǒng)支持高達4096灰度級，在業(yè)界中具備****的性能。常見的應用包括部份大型的跨國公司制造用于電信或照明產(chǎn)業(yè)的晶圓級光學器件，其他新應用包括顯微鏡制造以及生物學和生命科學領域的器件制造。